小型離子濺射儀

簡(jiǎn)要描述：JS-600小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

產(chǎn)品型號(hào)：JS-1600
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2026-04-24
訪問量：7617

詳情介紹

JS-1600小型離子濺射儀采用成熟穩(wěn)定的二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，以簡(jiǎn)潔操作、可靠性能與靈活適配性，成為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備、非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作的理想配套設(shè)備。儀器兼顧實(shí)驗(yàn)室桌面使用需求與大樣品處理能力，從基礎(chǔ)科研到常規(guī)檢測(cè)場(chǎng)景均可穩(wěn)定勝任，為高質(zhì)量導(dǎo)電鍍膜與薄膜沉積提供標(biāo)準(zhǔn)化解決方案。

核心設(shè)計(jì)與應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

該設(shè)備以直流二極濺射為核心工作機(jī)制，在真空環(huán)境下通過電場(chǎng)加速離子轟擊靶材，使金屬原子均勻沉積于樣品表面，形成致密、連續(xù)、導(dǎo)電性能優(yōu)異的薄膜。整機(jī)操作流程簡(jiǎn)化，無需復(fù)雜調(diào)試，用戶可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求自主設(shè)定真空條件與濺射電流，快速獲得穩(wěn)定可重復(fù)的鍍膜效果。大尺寸真空腔體是該設(shè)備的突出亮點(diǎn)，有效突破常規(guī)小型設(shè)備的樣品尺寸限制，滿足大樣品濺射需求，大幅提升實(shí)驗(yàn)通量與適用范圍。設(shè)備標(biāo)配一片99.999% 超高純金靶，從源頭保障膜層純度與成膜質(zhì)量，為 SEM 成像、電極制備等關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供高品質(zhì)基礎(chǔ)條件。

關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)

靶材（上部電極）：標(biāo)配高純金靶，直徑 50mm、厚度 0.1mm，純度達(dá) 99.999%，成膜均勻性與導(dǎo)電性優(yōu)異。

真空室：直徑 160mm、高度 120mm，大腔體設(shè)計(jì)兼容大尺寸與多數(shù)量樣品處理。

樣品臺(tái)（下部電極）：面積直徑 50mm，適合大樣品的濺射。

工作真空：8×10?2—2×10?1 mbar，適配空氣 / 氬氣兩種工作介質(zhì)，靈活滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。

離子電流：標(biāo)配 50mA 離子電流表，濺射電流清晰直觀。

數(shù)顯計(jì)時(shí)：支持自定義單次濺射時(shí)間，操作直觀、過程可控。

工作電壓：-1600VDC，保障穩(wěn)定直流濺射電場(chǎng)。

真空系統(tǒng)：配置VRD-4飛越真空泵，抽速快、建壓穩(wěn)、噪音低。

氣路控制：配備氬氣專用進(jìn)氣口與微量充氣調(diào)節(jié)閥，支持 φ4×2.5mm 軟管連接。

外形尺寸：360mm×300mm×380mm，桌面式緊湊布局，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間。

擴(kuò)展適配與實(shí)用價(jià)值

除標(biāo)配金靶外，還可兼容金、鉑、銀、氧化鋅等多種靶材，為用戶提供更多材料選擇與功能擴(kuò)展空間。JS-1600小型離子濺射儀以穩(wěn)定的直流濺射、友好的操作界面、可靠的真空系統(tǒng)與大腔體兼容設(shè)計(jì)，全面覆蓋材料科學(xué)、物理、化學(xué)、電子、生物等領(lǐng)域的 SEM 樣品導(dǎo)電處理、非導(dǎo)體電極制備、表面改性等應(yīng)用。整機(jī)結(jié)構(gòu)堅(jiān)固、維護(hù)簡(jiǎn)便、運(yùn)行穩(wěn)定，是科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室、企業(yè)質(zhì)檢與研發(fā)部門提升制樣效率、保障檢測(cè)精度的高效工具。

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